光刻-刻蝕虛擬仿真實驗的設(shè)計與實施

［摘 要］ 對焦國家中國芯開發(fā)戰(zhàn)略，自主設(shè)計開發(fā)光刻-刻蝕虛擬仿真實驗。實驗以芯片生產(chǎn)過程中的光刻-刻蝕工藝作為代表，通過虛擬仿真技術(shù)進(jìn)行設(shè)備建模、光路模擬、微觀粒子運動演示等，將無法觸及的設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu)、復(fù)雜的光刻-刻蝕工藝影響、轉(zhuǎn)瞬即逝的微觀實驗現(xiàn)象直觀化展示給實驗者，利用“練習(xí)模式”和“考試模式”讓實驗者充分開展實驗探索，通過不同模擬情境激發(fā)學(xué)生學(xué)習(xí)興趣。（剩余7063字）