離子源對透鏡防藍(lán)光鍍膜工藝的影響

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摘 要：此項(xiàng)研究基于物理氣相沉積下的真空鍍膜技術(shù)，可以有效實(shí)現(xiàn)防藍(lán)光鏡片鍍膜工藝，采用高低折射率鍍膜材料的搭配，在光譜分析測試設(shè)備中，有害藍(lán)光波段（即可見光波長位于380～450nm）處，達(dá)到90%及以上反射的高反狀態(tài)。改變真空室內(nèi)離子源的使用條件，進(jìn)而取得更好的防藍(lán)光效果。研究表明，在開啟霍爾離子源輔助，且電子束流在8A的情況下，可以增加防藍(lán)光薄膜層的附著力和穩(wěn)定性，薄膜的性質(zhì)與輔助離子源和起始薄膜材料緊密相連。（剩余5513字）