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摘要:為了研究磁控濺射過(guò)程中基體溫度對(duì)涂層結(jié)構(gòu)和性能的影響。利用磁控濺射技術(shù)在2r-4合金表面制備不同基體溫度下的TiN涂層,用X射線衍射(XRD)技術(shù)分析涂層的物相成分和殘余應(yīng)力,采用掃描電子顯微鏡(SEM)表征涂層表面和截面的微觀形貌,用劃痕儀測(cè)量涂層與基體結(jié)合強(qiáng)度。研究結(jié)果表明:不同基體偏壓下制備的涂層表面均勻但略微粗糙,且涂層表面存在一定數(shù)量的熔覆狀顆粒和溝壑狀褶皺;由涂層X(jué)RD衍射譜可知,不同基體加熱溫度制備的涂層各主要衍射峰所對(duì)應(yīng)的晶體晶相都能較好地對(duì)應(yīng),隨著基體加熱溫度的升高,TiN(1 1 1)晶相的衍射峰值逐步增大,TiN(2 0 0)晶相衍射峰值逐步減小;由掃描電子顯微鏡(SEM)結(jié)果可知,隨基體溫度的升高,涂層的膜厚和表面形貌均發(fā)生了明顯的變化,基體溫度為300℃時(shí),涂層表面平整、光滑、起伏小,成膜質(zhì)量最好;由劃痕儀檢測(cè)結(jié)果可知,偏壓為300℃時(shí),Zr4合金基體與涂層的結(jié)合強(qiáng)度最好;由殘余應(yīng)力結(jié)果可知,基體溫度為300℃時(shí),涂層殘余應(yīng)力最小。(剩余6736字)
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基體溫度對(duì)鋯合金表面TiN涂層微觀形貌與性能的影響
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