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摘 要:無掩膜數(shù)字光刻機(jī)已在PCB光刻及半導(dǎo)體光刻領(lǐng)域逐漸開始應(yīng)用,相比傳統(tǒng)掩膜式光刻機(jī),可縮減光刻流程,節(jié)省光刻成本,使光刻數(shù)據(jù)在線實(shí)時(shí)調(diào)整變得更為簡單。而DMD(數(shù)字微鏡器件)目前作為數(shù)字光刻機(jī)常用的一種SLM(空間光調(diào)制)圖形發(fā)生器,對其所需要進(jìn)行的數(shù)據(jù)處理及控制較為關(guān)鍵。會(huì)直接關(guān)系到數(shù)字光刻機(jī)的曝光效率和產(chǎn)能。(剩余6785字)
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應(yīng)用于數(shù)字光刻機(jī)的DMD數(shù)據(jù)處理及控制系統(tǒng)
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