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Dual Gate液晶顯示屏柵極制程斷路缺陷的分析與改善

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摘要:文章探究了光刻工序的水汽和ITO刻蝕工序的藥液結晶對Dual Gate產品柵極制程的斷路影響,通過DOE試驗得到影響因子的最佳改善條件,使55寸Dual Gate產品柵極制程的斷路缺陷發(fā)生率整體降低36%,為公司帶來80.2萬元的月度收益,能夠對其他高端產品斷路缺陷的改善思路、新工藝設備的設計改進,提供參考。(剩余4436字)

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