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微槽的超聲振動輔助磁性復合流體拋光工藝研究

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摘要：針對微通道制氫反應器的微槽底部光整加工難題，開展超聲振動輔助磁性復合流體（UMCF） 拋光工藝研究。根據(jù)表面接觸理論分析微槽底部氣膜對磁性復合流體 （MCF） 拋光的影響，引入超聲振動改善 MCF 拋光微槽底部的表面質量；通過試驗探究 UMCF 拋光對微槽底部的拋光效果；研究不同參數(shù)下 MCF 拋光和 UMCF 拋光對微槽的表面形貌、表面粗糙度和去除率的變化規(guī)律，獲得最佳的拋光參數(shù)。（剩余9185字）

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