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摘 要：該文采用射頻磁控濺射技術(shù)在c面藍寶石和p型硅襯底上制備Al-Eu共摻雜ZnO（AEZO）薄膜，探討不同襯底類型及退火處理對薄膜的物相結(jié)構(gòu)、電子性能以及光學(xué)性能的作用。XRD分析確認AEZO薄膜呈六角纖鋅礦結(jié)構(gòu)，Al3+和Eu3+離子成功摻雜，且薄膜高度織構(gòu)化。藍寶石襯底的AEZO薄膜結(jié)晶度更優(yōu)，退火提升其結(jié)晶質(zhì)量。（剩余7418字）
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Al-Eu共摻雜ZnO薄膜的制備與光電性質(zhì)研究
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