光致抗蝕劑標(biāo)準(zhǔn)需求和發(fā)展建議

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關(guān)鍵詞：光致抗蝕劑，光引發(fā)劑，標(biāo)準(zhǔn)，標(biāo)準(zhǔn)體系

0 引言

光致抗蝕劑細(xì)分種類多、體系復(fù)雜屬于典型的交叉學(xué)科，按光刻類型可分為正性膠和負(fù)性膠；按原材料光化學(xué)反應(yīng)類型可分為光聚合型、光分解型和光交聯(lián)型；按波長和對應(yīng)線寬分類，光致抗蝕劑可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm），以及最先進(jìn)的EUV（<13.5nm），光致抗蝕劑的分類見表1[1，2]。（剩余3667字）