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表面刻蝕新技術(shù)
四川大學(xué)化學(xué)學(xué)院王玉忠院士團(tuán)隊(duì)提出無掩模限域刻蝕的表面潤濕性差異圖案化新策略。相關(guān)成果發(fā)表于《自然·通訊》（Nature Communications）。精確、復(fù)雜圖案的制備往往需依賴光刻、等離子體刻蝕、飛秒激光等手段，涉及光刻膠、光掩模等昂貴耗材，限制了此類表面的發(fā)展與應(yīng)用。（剩余2325字）
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