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[摘 要]文章通過建立微盲孔填銅模型、剛性電路板高厚徑比和撓性電路板通孔電鍍銅模型,同時基于電化學(xué)測試結(jié)果進(jìn)行電鍍銅的數(shù)值模擬計算,對鍍液對流對濃度邊界層的影響、加速劑在電極表面的積累效應(yīng)、鍍層均勻性、鍍槽內(nèi)電場分布和添加劑作用機(jī)制等進(jìn)行了分析。通過設(shè)計印制電路圖形,對圖形電鍍鍍層均勻性影響因素進(jìn)行分析,以此確定最優(yōu)工藝和參數(shù);達(dá)到電鍍銅表面同層厚度的均勻性與填銅的平整性效果,從而達(dá)到了減小盲孔孔徑直徑,降低孔深、銅層、面銅厚度和抗蝕膜厚度的目的。(剩余5354字)
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高精度集成感應(yīng)電路互連技術(shù)研究
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