MPCVD 金剛石涂層均勻性生長(zhǎng)的數(shù)值模擬與實(shí)驗(yàn)

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摘要 基于多物理場(chǎng)耦合仿真軟件 COMSOL Multiphysics 的微波等離子體模塊建立 MPCVD反應(yīng)腔內(nèi)氫氣等離子體的仿真模型，研究基底外側(cè)增設(shè)的環(huán)狀鉬支架與基底的不同高度差Δh 對(duì)基底表面等離子體分布的影響。采用變異系數(shù)對(duì)等離子體分布的均勻性進(jìn)行定量分析，并用 SEM對(duì)金剛石涂層表面的微觀形貌進(jìn)行表征。（剩余13261字）