國產(chǎn)光刻機(jī)官宣成功半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈再次得到提振

近日，工信部公布了《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》，包含氟化氪光刻機(jī)和氟化氬光刻機(jī)。其中，氟化氬光刻機(jī)光源193納米，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm。

國產(chǎn)光刻機(jī)取得突破半導(dǎo)體自主可控信心強(qiáng)化

近年來，國產(chǎn)替代突破一直是半導(dǎo)體芯片行業(yè)的重要主線。此前2023年，荷蘭政府就已頒布先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備的出口管制條例，限制ASML最先進(jìn)的幾款浸潤式DUV光刻機(jī)，需要政府許可證才能發(fā)運(yùn)。（剩余1550字）