夜伴美女互动直播APP免费下载-夜伴最新安卓ios官方正版软件

國產光刻機官宣成功半導體產業(yè)鏈再次得到提振

  • 打印
  • 收藏
收藏成功

近日，工信部公布了《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》，包含氟化氪光刻機和氟化氬光刻機。其中，氟化氬光刻機光源193納米，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm。

國產光刻機取得突破半導體自主可控信心強化

近年來，國產替代突破一直是半導體芯片行業(yè)的重要主線。此前2023年，荷蘭政府就已頒布先進半導體設備的出口管制條例，限制ASML最先進的幾款浸潤式DUV光刻機，需要政府許可證才能發(fā)運。（剩余1550字）

目錄
monitor