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薄微晶柔光磚及其制備方法

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摘 要: 本文闡述了一種制作薄微晶柔光磚的技術(shù)和過程。先坯體成型并在其表面涂抹一層底釉,然后在底釉上噴墨印花,接著在150℃的環(huán)境下干燥后,在噴墨印花的一面空網(wǎng)印一層保護(hù)釉,接著,在保護(hù)釉的表面涂上一層透明釉,并在其上覆蓋一層透明的細(xì)熔塊,最后涂上一層保護(hù)膠水,通過高溫?zé)疲纯傻玫桨氤善?;最后,在拋光線上打超潔亮最終得到光澤度為25-35度的薄微晶柔光磚。(剩余4085字)

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