UiO-66@GO復(fù)合材料制備及其光催化性能

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摘 要：為探究UiO-66的制備及應(yīng)用，以四氯化鋯為金屬中心，采用水熱法制備出UiO-66，并針對UiO-66的分散性較差、光生電子空穴對易復(fù)合等問題，以氧化石墨烯（GO）作為碳基材料對UiO-66進行復(fù)合修飾，通過后合成法成功制備出UiO-66@GO復(fù)合材料。通過FTIR、XRD、SEM、XPS、BET等對UiO-66@GO復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)進行表征，并以亞甲基藍為底物，研究了pH值和質(zhì)量比等因素對UiO-66@GO復(fù)合材料光催化性能的影響。（剩余18721字）