一種高純高致密細(xì)晶低氧鎢靶材的制備方法
專利申請(qǐng)?zhí)枺?022113995563
公布號(hào)：CN115740452A
申請(qǐng)日：2022.11.09公開日：2023.03.07
申請(qǐng)人：有研億金新材料（山東）有限公司；有研億金新材料有限公司
本發(fā)明屬于磁控濺射靶材制造技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種高純高致密細(xì)晶低氧鎢靶材的制備方法。以純度大于SN的W粉為原料，先通過真空熱壓燒結(jié)的方式獲得相對(duì)密度為800/～900/的預(yù)成型鎢靶坯。（剩余168字）