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甲基硅酸鈉對土遺址水理性質改善的掃描電鏡分析

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摘 要：【目的】在長期雨水沖刷及毛細水作用下，土遺址極易受到干濕循環(huán)影響產(chǎn)生裂縫，造成破壞。為增加土遺址疏水性、提升其水理性質，利用防水劑對其進行改善?！痉椒ā窟x用甲基硅酸鈉溶液對土遺址進行噴灑處理，使該溶液經(jīng)毛細作用進入土樣內部，再由碳化反應使土體產(chǎn)生疏水性，并通過SEM電鏡分析其疏水原理?！窘Y果】通過電鏡分析發(fā)現(xiàn)：甲基硅酸鈉在碳化作用下使土顆粒表面形成有機硅氧膜。（剩余6849字）

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