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摘 要： 利用雙靶磁控濺射技術(shù)，通過固定鉻靶的直流功率，改變鉭靶的射頻功率，在CrNi3MoVA鋼表面制備鉭鉻合金薄膜，探究濺射功率對(duì)鉭鉻合金薄膜的性能影響。利用掃描電鏡/能譜儀和X射線衍射儀分析不同功率（80 W-～120 W）條件下鉭鉻合金薄膜的沉積速率和物相組成，通過納米壓痕儀和電化學(xué)工作站測試薄膜的力學(xué)性能和耐腐蝕性能。（剩余6387字）
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濺射功率對(duì)磁控濺射鉭鉻合金薄膜的影響
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